반도체/디스플레이
CVD와 ALD는 반도체 및 디스플레이 산업에서 매우 중요한 역할을 하는 산업용 공정 기술입니다.
CVD (Chemical Vapor Deposition)
기체나 액체 상태의 전구체로부터 고체 반응 생성물을 생산하기 위해 화학 반응을 이용하는 공정 기술입니다. 이 기술은 전자, 반도체 및 디스플레이 산업에서 사용되며, 대부분의 고체 반도체 또는 필름 제조 공정에서 필요한 기술입니다. CVD는 주로 SiO2, Si3N4, TiN, Al2O3 등의 산화물, 질화물 및 금속 필름 등을 생성하는 데 사용됩니다.ALD (Atomic Layer Deposition) CVD의 발전된 형태로, ALD에서는 서로 반응하는 전구체(precurso)를 번갈아가며 적층시켜 반도체나 나노구조물의 표면에 원자층 단위로 고르게 막을 형성하는 고밀도 공정으로 반도체 및 디스플레이 분야에서 높은 정밀도를 요구하는 레이어 적용에 사용됩니다. 또한, ALD는 전자 기기에서 사용되는 최첨단 차세대 반도체 소자의 제조에도 많이 사용됩니다.
ALE (Atomic Layer Etching) ALE에서는 반복적인 순환을 통해 원자층 단위로 고체 막을 제거합니다. 각 순환에서는 표적 표면을 활성화하고, 활성화된 표면에 특정 가스를 도입하여 반응을 유도하고, 마지막으로 반응된 층을 제거합니다. 이 과정을 여러 번 반복하여 층을 원하는 두께만큼 정밀하게 제거합니다. 높은 정밀도로 차세대 반도체 공정의 핵심 기술로 평가받고 있습니다.
오스 주식회사는 반도체 및 디스플레이 생산 공정의 핵심 요소인 CVD, ALD, ALE 등 최신 기술에 대한 이해와 활용 능력에 높은 경쟁력을 보유하고 있습니다.
